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厂    商：沈阳科学仪器研制中心有限公司

负责人： 郑必长

电    话：0574-86685893

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仪器描述: 

自主设计的连续式多腔室物理气相沉积系统，设备由三个模块化腔室组成，样品可在三个腔室间移动，包括磁控溅射、多弧离子镀和电子束蒸发等功能。该设备主要用于沉积金属和陶瓷薄膜，可以实现多种技术集成，沉积复杂结构的薄膜；同时可用于中试技术开发。