日前，中科院宁波材料所科研人员开发出一种超黑高稳定性的光吸收涂层技术，可应用于抑制光学器件中杂散光的干扰、提高太阳能光热转化效率等领域。

       该涂层采用物理气相沉积技术，可在金属、陶瓷、高分子等绝大多数常用材料表面涂覆，甚至可以在柔性高分子薄膜表面涂覆，涂层结合力高，涂层的物理化学性能稳定、硬度高。

       该涂层技术的研发人员之一，在中国科学院大学学习的巴基斯坦籍博士生Abdul Ghafar Wattoo介绍，该成果是其在中科院宁波材料所表面防护课题组攻读博士研究生期间参与的一项研究工作，涂层为TiAlN三元陶瓷，光吸收覆盖近红外、可见光以及紫外波段，光吸收率超过95%。该涂层具有精巧的纳米结构，底层为层状结构，有利于提高其在各种基体材料上的附着力，中部为柱状结构，柱状界面的多次反射吸收光的能量，顶部为锥形结构，有利于入射光的导入，但制备方法却非常简单。

       这种光吸收涂层在波长200nm到2500nm范围内的光吸收系数超过95%，覆盖近红外、可见光以及紫外，在现有陶瓷光吸收涂层中波长范围最宽吸收率最高。由于该涂层制备成本低，物理化学性能非常稳定，未来可在光学仪器杂散光控制、能量转换等领域有广泛应用。该工作成果发表在Journal of Materials Chemistry C, 2018,6, 8646-8662，Solar Energy, 2016, 138, 1–9。该技术已经申报发明专利2项CN201210063873.8，DD180138I。

TEM和SEM下超黑光吸收涂层的结构

涂覆在柔性高分子材料表面的超黑光吸收涂层

JMC C 对该工作的亮点报道